一、核心功能

1. 深度去除杂质：多级预处理（砂滤、炭滤、精密过滤）去除泥沙、铁锈、胶体、余氯、有机物、悬浮物，保护核心膜件。

2. 反渗透（RO）纯水制备：RO 膜去除 99% 以上离子、重金属、细菌、病毒，产出纯水（1–5 μS/cm）。

3. 超纯化处理（EDI / 混床）：

• EDI：连续电去离子，深度脱盐，稳定产出 15–18.2 MΩ・cm 超纯水，无需酸碱再生、环保安全。

• 混床：阴阳树脂交换，深度去除微量离子，达到 18.2 MΩ・cm 极限纯度，适合超高洁净场景。

4. 水质稳定输出：在线监测电阻率 / 电导率、TOC、温度，实时显示、超标报警，保证水质长期稳定。

5. 全自动运行：PLC + 触摸屏控制，自动制水、循环、冲洗、补水、停机、故障报警，无人值守、连续供水。

6. 闭环循环防污染：超纯水循环回流，避免接触空气导致电阻率下降，维持高纯度。

7. 保护精密工艺：杜绝钙镁离子、氯离子、金属离子残留，防止工件水渍、白斑、氧化、腐蚀，适配高端清洗线精密漂洗。

二、标准工艺流程（RO+EDI）

自来水 → 原水泵 → 多介质过滤器 → 活性炭过滤器 → 精密过滤器（5μm） → 一级 RO → 二级 RO → 中间水箱 → EDI 模块 → 超纯水箱 → 循环供水至清洗机

超高纯可选：二级 RO → 混床 → 超纯水箱

三、核心特点

• 超高纯度：出水电阻率15–18.2 MΩ·cm，满足半导体、光学、医疗植入级洁净标准。

• 稳定可靠：全自动化运行，24 小时连续供水，水质波动极小，适合精密清洗线批量生产。

• 环保安全：EDI 无需酸碱再生，无危废排放；全密闭循环，无二次污染。

• 低运行成本：树脂寿命长、能耗低、维护简单，长期使用经济性好。

• 适配高端清洗：专为全自动多槽超声、碳氢清洗机、真空清洗线的精密漂洗工位设计，保障工件无残留、无水痕。

四、出水水质（标准）

• 超纯水：电阻率 15–18.2 MΩ·cm（25℃）

• 电导率：≤0.055 μS/cm

• TOC：≤10 ppb

• 颗粒：≥0.05μm 颗粒＜1 个 /mL

• 离子残留：几乎为零